Термически оксидированные пластины

Термически оксидированный слой на кремниевых пластинах формируется на кремнии под высокой температурой 900-1200С при наличии оксиданта. Существуют «мокрые» и «сухие» методы роста. Термически оксидированный слой служит для пассивации кремния, создания буфера между кремнием и рабочим слоем и осуществляет диэлектрическую защиту.

Толщина термически оксидированного слоя	Applications
100 Å	Tunneling Gates
150 ~ 500 Å	Gate Oxides
200 ~ 500 Å	LOCOS Pad Oxide
2000 ~ 5000 Å	Masking Oxides
3000 ~ 10000 Å	Field Oxides

Спецификация
Размер*, мм	50.8, 76.2, 100, 150
Диапазон толщин	100 Å ~ 6 мкм
Допуск по толщине	+/-5%
Способ выращивания	"мокрый" либо "сухой"
Показатель преломления	1.456

*Может изменяться в соответствии с требованиями заказчика.

Для получения большей информации свяжитесь с нашим менеджером.