Подложки оксида хрома Cr2O3

Размер:

3мм x 3мм - 5мм x 5мм, по требованиям заказчика.

Толщина:

0.5мм, 1мм, по требованиям заказчика.

Ориентация:

(0001), (11-20), (10-10), по требованиям заказчика

Полировка:

односторонняя, двусторонняя

Эпитаксиально выращенные тонкие пленки Cr2O3 на подложке из Al2O3 (0001) с использованием высокочастотного магнетронного распыления при комнатной температуре с последующим процессом быстрого термического отжига. Показано, что фаза и кристалличность выращенных образцов зависят от соотношений потоков рабочего газа (Ar / O2). Результаты дифракции рентгеновских лучей (XRD) показывают, что обогащенная кислородом фаза CrO3, имеющая предпочтительную ориентацию, образуется при выращивании распылением при комнатной температуре при соотношении потоков рабочего газа (Ar / O2) 9: 1 и 7: 3. Результаты XRD-сканирования показывают, что отжиг приводит к превращению богатой кислородом фазы CrO3 в эпитаксиальную фазу Cr2O3, что подтверждается рентгеновской фотоэмиссионной спектроскопией. Образцы, выращенные при соотношении газовых потоков 9: 1, имеют очень гладкую поверхность со среднеквадратичной шероховатостью 0,1–0,3 нм.